分子泵在光学镀膜行业中的应用
光学镀膜是指通过真空溅射的方式在光学零件表面上镀上一层或多层金属薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了改变材料表面的反射和透射特性。今天我们就来聊一聊光学镀膜。
光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。
光学零件表面镀膜后，光在膜层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。
光学薄膜需在高真空度的镀膜腔体中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃)；而较先进的技术，如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。IAD工艺不但生产比常规镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜，而且可以应用于塑料制成的基底。比如眼镜镜片
常见的光学镀膜材料有以下几种：
1、氟化镁
材料特点：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。
2、二氧化硅
材料特点：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
3、氧化锆
材料特点: 白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。
下面介绍几种应用比较广泛的光学镀膜的技术，比如等离子溅射和蒸发沉积
等离子溅射
等离子溅射包括一系列已知技术，包括先进等离子溅射和磁控溅射。一般概念来源于等离子体的产生。等离子体中的离子随后加速进入源材料，撞击出松散的高能源离子，然后溅射到目标光学元件上。尽管每种等离子溅射都有其独特的特性、优点和缺点，但由于它们有共同的操作概念，因此这些技术被组合在一起。
蒸发沉积
在蒸发沉积过程中，真空室中的源材料通过加热或电子束轰击进行蒸发。在蒸发过程中，蒸汽冷凝到光学表面并精确控制加热、真空压力、基片定位和旋转，使特定设计厚度的光学镀膜保持均匀。与其他技术相比，蒸发沉积可以容纳更大的镀膜机尺寸，而且通常更经济有效。
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